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荏原水泵技术在半导体产业应用作者：泵友圈
自中国国务院印发《国家集成电路产业发展推进纲要》以来，集成电路产业的发展上升为国家战略，为推动其发展，国家专门设立了中国集成电路产业投资基金，在庞大资金与相关配套政策扶植下，当前半导体行业正在兴起新一波的建设热潮。预计 2017-2020 年间全球将投产62 座半导体晶圆厂，其中 26 座设于中国大陆， 占全球总数 42%。荏原在上世纪70年代末日本半导体产业发展过程中就针对半导体产业的工艺流程进行深入研究，并与日立、 三菱、富士通、东芝、日本电气等公司开展深入合作，对半导体生产过程中纯水制造、纯水输送、废水处理工艺中提供可靠、安全的泵类产品，并在空调系统中提供高效率、运行稳定的泵类产品；发展至今荏原是可以在半导体行业中提供完整、可靠、高效的泵类产品解决方案的完美供应商。 1 公用动力系统 为应对能源挑战，提高资源利用效率，荏原创新发布新一代高效CB卧式双吸泵。新一代双吸泵具有效率高，成本低，汽蚀性能卓越，并且维护简单等特点。
在已发售的 GS 型、GSS 型基础上，荏原充分运用在标准泵事业中积累的标准化和量产技术以及在定制泵事业中积累的工程技术，开发出了符合化工泵国际标准 ISO2858、ISO5199的 GSO 型新产品。该产品将作为涵盖清水以及化学溶液等各种介质的 GS 系列全球核心产品，具有以下特点：
2 超纯水制造和输送工艺 我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级。高纯水的国家标准为：GB1146.1-89至GB1146.11-89 ，高纯水的电子级水分为五个级别：Ⅰ级、Ⅱ级、Ⅲ级、Ⅳ级和Ⅴ级，该标准是参照ASTM电子级标准而制定的。电阻分别对应为：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
超纯水的水质标准中所规定的各项指标的主要依据有：（1）微电子工艺对水质的要求；（2）制水工艺的水平；（3）检测技术的现状。
超纯水在电子元器件生产中的重要作用日益突出，超纯水水质已经成为影响电子元器件产品质量、生产成品率以及生产成本的重要因素之一，水质要求也是越来越高。在电子元器件的生产过程当中，超纯水主要用作清洗用水以及用来配制各种溶液、浆料，不同的电子元器件在生产过程中纯水的用途及对水质的要求也略有不同。因此电子行业的生产用水离不开超纯水设备，这也是电子行业为什么用超纯水设备的原因。 荏原FSSC/GSO/GSS/产品不仅结构稳定，而且完美解决超纯水洁净度和机封耐高温情况。
洁净度：超纯水生产制备工艺复杂、制备成本较高且水质对芯片生产的良品率至关重要，为了杜绝水泵生产过程过流部件可能存在的污染荏原纯水环节应用水泵在性能试验完毕后，会对水泵拆解、各部品禁油（脱脂）处理清洁水泵。 机封耐高温：超纯水又称为UP水，是指电阻率达到18 MΩ*cm（25℃）的水，除了水分子外几乎没有杂质，水质很涩，对于机封的润滑极为不利，没有了良好的润滑机封的摩擦面温度会升高、变软，为了解决机封耐磨、耐高温情况荏原采用WC/WC机械密封，这种机封具有足够的强度、刚度、耐磨性和导热性。 3 晶圆清洗 晶圆处理制程是半导体生产流程中技术最复杂且资金投入最多的环节，而晶圆清洗在晶圆处理制程中起到至关重要的作用。 由于集成电路内各元件及连线相当微细，因此制造过程中，如果遭到尘粒、金属的污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，形成短路或断路等，导致集成电路的失效以及影响几何特征的形成。 因此在制作过程中除了要排除外界的污染源外，集成电路制造步骤如高温扩散、离子植入前等均需要进行湿法清洗或干法清洗工作。另外，清洗剂因PH值不同对泵的要求也有差异，荏原丰富的泵产品既可满足纯水的传输要求，也可应对一般酸碱性介质。
4 废水处理 半导体的制造工厂包含上百个生产工艺，其产生的污水种类较多，对泵的耐腐蚀性有很高的要求。从一般性酸碱污水到研磨废水，荏原均有满足客户需求的高品质产品。荏原除了耐腐蚀性金属泵之外，其领先的树脂水泵在应对强酸强碱类介质方面拥有优异表现。
当前，荏原机械已经成功助力多家国内外半导体行业巨头的生产建设，在行业中具有很高的声誉及竞争力。 未来，荏原机械将紧随中国半导体行业的发展步伐，从整个产业链中寻求合作机会，同时不断推出“稳定、高效、长寿命”的产品，为中国半导体事业的发展贡献一份力量。
5 相关荣誉 2009年全球最大的芯片代工企业台积电高级副总裁及CIO Stephen Tso授予荏原最优秀产品奖。 2019年美国英特尔公司授予荏原公司Supplier Achievement Award，简称：SAA 该奖章是英特尔公司授权在其重视领域取得卓越业绩的供应商企业，以表彰该企业在业界发挥的重要领导作用
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